之前的文章中我們介紹過(guò)原子力顯微鏡的核心部件，也正是原子力顯微鏡的核心部件決定了afm原子力顯微鏡不受STM等要求樣品表面能夠?qū)щ姷南拗?可以對(duì)導(dǎo)體或者不具導(dǎo)電性的樣品進(jìn)行探測(cè)。同樣，原子力顯微鏡也適用于真空、超高真空、氣體、溶液、電化學(xué)環(huán)境、常溫和低溫等環(huán)境,可供研究時(shí)選擇適當(dāng)?shù)沫h(huán)境,其基底可以是云母、硅、高取向熱解石墨、玻璃等。
afm原子力顯微鏡成為晶體生長(zhǎng)機(jī)理研究的有效工具：
在晶體生長(zhǎng)理論的發(fā)展過(guò)程中，形成了很多模型。但是這些模型大多是用理論分析的間接研究,我們并不知道它們和實(shí)際情況究竟有無(wú)出入，像差多少?因此科研人員們希望能用顯微手段直接觀察到晶面生長(zhǎng)的過(guò)程。
雖然用光學(xué)顯微鏡、相襯干涉顯微鏡、激光全息干涉術(shù)等對(duì)晶體晶面的生長(zhǎng)進(jìn)行直接觀測(cè),也取得了一些成果。但是,由于這些顯微技術(shù)分辨率太低,或者是對(duì)實(shí)驗(yàn)條件要求過(guò)高,出現(xiàn)了很多限制因素,不容易對(duì)生長(zhǎng)界面進(jìn)行分子原子級(jí)別的直接觀測(cè)。
原子力顯微鏡則為我們提供了一個(gè)原子級(jí)觀測(cè)研究晶體生長(zhǎng)界面過(guò)程的全新有效工具。利用它的高分辨率和可以在溶液和大氣環(huán)境下工作的能力,為我們精確地實(shí)時(shí)觀察生長(zhǎng)界面的原子級(jí)分辨圖像、了解界面生長(zhǎng)過(guò)程和機(jī)理創(chuàng)造了難得的機(jī)遇。
近幾年,國(guó)外學(xué)者已經(jīng)開(kāi)始利用afm原子力顯微鏡進(jìn)行晶體生長(zhǎng)機(jī)理的研究,特別是研究生長(zhǎng)界面的動(dòng)態(tài)過(guò)程,這些研究已經(jīng)對(duì)傳統(tǒng)的晶體生長(zhǎng)理論和模型帶來(lái)了沖擊和挑戰(zhàn),在此基礎(chǔ)上,晶體生長(zhǎng)理論可望有新的突破。這方面的工作不僅有利于晶體生長(zhǎng)理論本身的發(fā)展,而且有利于指導(dǎo)晶體生產(chǎn)實(shí)踐,具有重要的理論和實(shí)際意義。